拋光機(jī)由底座、拋盤、拋光織物、拋光罩及蓋等基本元件組成。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響終極觀察到的組織，即不會(huì)造成假組織。同時(shí)還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向往返移動(dòng)，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。

電念頭固定在底座上，固定拋光盤用的錐套通過螺釘與電念頭軸相連。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有最大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不外也應(yīng)當(dāng)盡可能小。其次是精拋，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使超聲波模具拋光機(jī)拋光損傷減到最小。

拋光罩及蓋可防止灰土及其他雜物在機(jī)器不使用時(shí)落在拋光織物上而影響使用效果。解決這個(gè)矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。拋光機(jī)操縱的樞紐是要想法得到最大的拋光速率，以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤速度可適當(dāng)進(jìn)步，拋光時(shí)間以拋掉粗拋的損傷層為宜。此外，拋光操作時(shí)還必須注意一些問題：

1、拋光必須在清潔無(wú)塵的室內(nèi)進(jìn)行。因?yàn)橛矇m粒會(huì)污染研磨材料，損害已接近完成的模具表面。

2、每個(gè)拋光工具只使用一個(gè)級(jí)別的拋光鉆石膏，并存放在防塵或密封的容器內(nèi)。

3、當(dāng)要轉(zhuǎn)換更細(xì)一級(jí)的砂號(hào)時(shí)，要注意該級(jí)砂號(hào)是否完全覆蓋上一級(jí)(較粗)砂紋，必須清洗雙手和工件。

4、開始拋光時(shí)要先處理角落、邊角和圓角等較難拋光的地方。

5、處理尖角及邊角時(shí)應(yīng)特別小心，注意不要形成圓角或圓邊，應(yīng)盡量采用較硬的拋光工具進(jìn)行模具的研磨和油石打磨。